Lithography (microfabrication)

Ein Aligner , auch Maskenaligner genannt , ist ein System zur Herstellung integrierter Schaltungen (ICs) mittels Fotolithografie .

Die Dip-Pen-Nanolithographie ( DPN ) ist eine Rasterkraftmikroskopie- Technik, bei der die Spitze eines Rasterkraftmikroskops (AFM) direkt zur Strukturierung eines Substrats verwendet wird.

Die Elektronenstrahllithografie (oft abgekürzt als E-Beam-Lithografie oder EBL ) ist ein Verfahren, bei dem ein fokussierter Elektronenstrahl über eine Oberfläche geführt wird, um dort spezifische Formen auf einem mit

Die extreme Ultraviolett-Lithografie ( EUVL oder kurz EUV ) ist eine Technologie, die in der Halbleiterindustrie zur Herstellung integrierter Schaltungen (ICs) eingesetzt wird.

Die Fotolithografie (auch optische Lithografie genannt ) ist ein Verfahren, bei dem mithilfe von Licht ein Muster auf eine auf einem Substrat, typischerweise einem Siliziumwafer, aufgebrachte Fotolackschicht übertragen

Interferenzlithografie (oder holografische Lithografie ) ist eine Technik, die kohärentes Licht (z. B.

In der Halbleiterfertigung ist die inverse Lithographie ( ILT ) ein Verfahren zur optischen Proximity-Korrektur , das die Fotomaskenkonstruktion optimiert .

Das Laserdrucken einzelner Nanopartikel ist eine Methode, bei der optische Kräfte eingesetzt werden , um einzelne Nanopartikel gezielt auf bestimmte Bereiche eines Substrats zu lenken.

LIGA ist eine Fertigungstechnologie zur Herstellung von Mikrostrukturen mit hohem Aspektverhältnis .

Die Lithografie der nächsten Generation ( Next-Generation Lithography , NGL ) ist ein Begriff aus der Halbleiterfertigung und beschreibt Lithografietechnologien , die sich in der Entwicklung befinden und die aktuellen

Die maskenlose Lithographie ( MPL ) ist eine fotomaskenlose , fotolithographieähnliche Technologie, die verwendet wird, um das Bildmuster mittels UV-Strahlung oder Elektronenstrahl auf ein mit chemischem Fotolack

Die Nanosphärenlithographie ( NSL ) ist ein wirtschaftliches Verfahren zur Erzeugung einlagiger, hexagonal dicht gepackter oder ähnlicher Muster nanoskaliger Strukturen auf Nanosphären .

Die Protonenstrahllithografie (oder p-Strahl-Lithografie ) ist ein direktes Lithografieverfahren , bei dem ein fokussierter Strahl hochenergetischer ( MeV ) Protonen zur Strukturierung von Fotolackmaterialien im

Die Schablonenlithografie ist ein neuartiges Verfahren zur Herstellung von Nanostrukturen mithilfe von Nanoschablonen ( Schattenmasken) mit Öffnungen im Nanometerbereich .

Ein Stepper oder Wafer-Stepper ist ein Gerät, das bei der Herstellung integrierter Schaltungen (ICs) eingesetzt wird.

In der Technologie bezeichnet Softlithographie eine Familie von Verfahren zur Herstellung oder Replikation von Strukturen mithilfe von „elastomeren Stempeln, Formen und anpassungsfähigen Fotomasken“.