Thin film deposition

Atomlagenepitaxie (ALE), allgemeiner bekannt als Atomlagenabscheidung (ALD), ist eine spezielle Form des Dünnschichtwachstums ( Epitaxie ), bei der typischerweise alternierende Monolagen zweier Elemente auf ein Substrat

Die chemische Gasphasenabscheidung ( CVD ) ist ein Dünnschichtabscheidungsverfahren zur Herstellung hochwertiger und leistungsstarker Festkörpermaterialien.

Epitaxie (vom Präfix epi- bedeutet „darauf“) ist eine Art des Kristallwachstums bzw.

Manuel Bibes (born July 15, 1976) is a French physicist specializing in functional oxides,multiferroic materials, and spintronics. He is currently a Research Director at the National Center for Scientific Research (CNRS).

Die Molekularstrahlepitaxie ( MBE ) ist ein Epitaxieverfahren zur Dünnschichtabscheidung von Einkristallen . MBE findet breite Anwendung in der Herstellung von Halbleiterbauelementen , darunter Transistoren .

In der Materialwissenschaft ist das Sol-Gel-Verfahren eine Methode zur Herstellung fester Materialien aus kleinen Molekülen.

Die Sputterdeposition ist ein physikalisches Dampfabscheidungsverfahren (PVD) zur Dünnschichtabscheidung durch Sputtern .

Galvanisieren ist ein Oberflächenveredelungsverfahren, bei dem ein Metall auf eine Oberfläche aufgebracht wird. Dieses Verfahren wird seit Jahrhunderten angewendet und ist auch für moderne Technologien unerlässlich.

Verdunstung ist eine Form der Verdampfung , die an der Oberfläche einer Flüssigkeit beim Übergang in die Gasphase stattfindet.

Wärmedämmschichten ( WDB ) sind hochentwickelte Materialsysteme, die üblicherweise auf metallische Oberflächen von Bauteilen aufgebracht werden, die hohen Temperaturen ausgesetzt sind, wie beispielsweise

Weißblech besteht aus Stahlblechen , die mit einer dünnen Zinnschicht überzogen sind , um Rost zu verhindern .