Shanghai Micro Electronics Equipment

Shanghai Micro Electronics Equipment ( Group ) Co., Ltd. ( SMEE ) ist ein in Shanghai , China , ansässiges Unternehmen, das Anlagen zur Halbleiterfertigung herstellt . Das Unternehmen befasst sich mit der Forschung, Entwicklung, Produktion und dem Vertrieb von Lithografiescannern und Inspektionswerkzeugen für die Halbleiterindustrie und bietet seinen Kunden darüber hinaus Supportleistungen an.

SMEE wurde 2002 von He Rongming, einem ehemaligen Vizepräsidenten von Shanghai Electric , gegründet . Ursprünglich handelte es sich um ein Forschungsprojekt zur Lithografiemaschinentechnologie im Rahmen des 863-Programms . Nach einigen Jahren Forschung brachte SMEE die erste in China hergestellte Lithografiemaschine für den kommerziellen Einsatz auf den Markt. ^{[ 1 ] [ 2 ]}

Im Dezember 2017 unterzeichnete SMEE einen Vertrag mit CSC Financial, um den Börsengang vorzubereiten . Im Zuge dessen akquirierte SMEE Finanzmittel von Investoren wie China Everbright Limited . Anschließend kam es zu einem Wechsel im Managementteam, woraufhin He SMEE Anfang 2018 verließ. ^{[ 2 ]}

Vor 2023 war das fortschrittlichste Produkt von SMEE für die Herstellung von Front-End-Halbleiterchips die SSA600. Sie verfügt über eine Scanauflösung, die die Fertigung von integrierten Schaltkreisen der 90-nm-Klasse ermöglicht. Die Maschinen der SSA600-Serie wurden von Beobachtern als Immersions-Tief-Ultraviolett-Lithographieanlage beschrieben, die mit einem Argonfluorid-(ArF) -Excimerlaser ausgestattet ist , der kohärentes ultraviolettes Licht mit einer Wellenlänge von 193 nm emittiert. ^{[ 3 ]}

Im Dezember 2023 berichteten westliche Medien, dass SMEE die erste Entwicklungsphase seiner neuen Immersionslithografieanlage SSA800-10W abgeschlossen hat . Diese Anlage verfügt über eine Scanauflösung, die die Herstellung von Chips der 28-nm-Prozessklasse ermöglicht. Exemplare der neuen Anlage wurden möglicherweise bereits an Hersteller wie SMIC und an Forschungsinstitute ausgeliefert. ^{[ 4 ] [ 5 ]} Die SSA800 nutzt weiterhin einen ArF-Laser als Lichtquelle, verfügt aber auch über verbesserte Werkzeuge und Komponenten, die es Herstellern ermöglichen, Schaltungsstrukturen zu realisieren, die für die 28-nm-Prozesstechnologie relevant sind. ^{[ 3 ]} Westliche Medien berichteten, dass die SSA800 so konzipiert ist, dass keine ihrer Komponenten geistiges Eigentum aus den USA enthält. ^{[ 3 ]} Einige Analysten vermuten, dass die chinesische Regierung SMEE beauftragt hat, ihr neues, 28-nm-fähiges DUV-Immersionssystem mit dem ähnlichen ASML NXT:2000i-System zu vergleichen, und dass die SSA800 Teil einer vollständig inländischen Produktionslinie ist, die sich derzeit in der Testproduktion und Zertifizierung befindet. ^{[ 6 ]} Anfang 2024 war die neue Lithographiemaschine SSA800 noch nicht auf der Website von SMEE in der Produktliste aufgeführt.

Zukünftig könnte eine Version des SSA800 mittels Mehrfachstrukturierung auch bei Prozessen unterhalb der 28-nm-Technologie eingesetzt werden. Generell ermöglichen Fotolithografietechniken, die im Bereich der Mehrfachstrukturierung entwickelt wurden , die Herstellung von integrierten Schaltungen mit integrierten Schaltungen mithilfe von Immersionslithografieanlagen und einer ArF-Laserlichtquelle, selbst bei fortschrittlichen Technologien wie 7-nm- oder sogar 5-nm-Prozessen. So deuteten Medienberichte aus dem Jahr 2016 beispielsweise darauf hin, dass Intel für seinen damals neuen 10-nm-Prozess Immersions-DUV-Anlagen in Kombination mit selbstjustierenden Doppelstrukturierungstechniken nutzte, um die gewünschte Strukturgröße zu erreichen, anstatt die neueste EUV-Fotolithografietechnologie einzusetzen. ^{[ 7 ]}

Die SSA800-Maschine von SMEE hinkt dem Branchenführer der Fotolithografie, ASML Holding, zeitlich hinterher: ASML lieferte 2011 erstmals Maschinen mit 28-nm-Fähigkeit an TSMC. ^{[ 3 ]}

Vor der Einführung der Scannerserie SSA800 im Jahr 2023 hatte SMEE eine Reihe von Lithographie-, Messtechnik- und Folgeanlagen entwickelt, darunter vier Maschinenserien für die Herstellung von Front-End-ICs (wie die Scanner der Serie SSA600), Back-End-IC-Gehäusen, LEDs , MEMS , IC-Leistungsbauelementen und TFTs . ^{[ 2 ]}

Im Jahr 2024 meldete SMEE ein Patent für einen EUV-Lithografiescanner zur Herstellung fortschrittlicher Chips an, der derzeit nur vom niederländischen Unternehmen ASML produziert wird . ^{[ 8 ]} Einige Beobachter vermuten, dass es in China neben SMEE bis zu drei weitere Initiativen gibt, die – unter Beteiligung privater, staatlicher und Bildungseinrichtungen – in den nächsten Jahren einen Prototyp eines chinesischen EUV-Lithografiescanners entwickeln und auf den Markt bringen sollen. ^{[ 6 ]} Der Hauptantrieb für die Entwicklung fortschrittlicher chinesischer Lithografieanlagen scheint ein staatlich gefördertes Vorhaben zur Stärkung der öffentlich-privaten Zusammenarbeit zu sein, um Innovationen zu fördern. Insbesondere versucht der Staat, Entwicklungshemmnisse zu überwinden, indem er den Transfer fortschrittlicher, staatlich geförderter Forschung und Entwicklung an ausgewählte Unternehmen des Privatsektors wie SMEE erleichtert. ^{[ 9 ]}

Im Dezember 2022 setzte das US-Handelsministerium im Rahmen der Bemühungen der Vereinigten Staaten, die Entwicklung fortschrittlicher Halbleiteranlagen in China zu behindern , SMEE auf die Entity List des Bureau of Industry and Security . ^{[ 10 ] [ 11 ]}

• ASML Holding
• Semiconductor Manufacturing International Corporation

• Offizielle Website